CMS是我们紧凑型的外置式摆动阴极，适用于80mm或125mm内径的靶管
使用摆动阴极的外置端头，磁棒在独立于旋转靶管外按设定的轴旋转摇摆，使其成为显示或3D打印镀膜的理想选择。
在静态基板上可达到小于±1%的均匀性（当不使用摇摆阴极时，静态基板均匀性控制一般大于 ± 15%）
摆动阴极的另一种使用是将磁棒置于溅射区域或通过远程来调整磁棒位置。
根据靶管长度的不同，可能需要外部支撑
Swing Duo™软件可以通过监控变量来设计参数
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