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建筑玻璃及减反射玻璃

旋转阴极溅射技术的第一次大规模商业应用是在大面积玻璃镀膜领域,在20世纪80年代后期由美国Airco引入。旋转阴极的可靠性自引入以来已经提高了好几个数量级。目前,在大面积玻璃镀膜领域使用了数以万计的旋转磁阴极,SCI的旋转磁控阴极在全球大面积玻璃镀膜领域占有一席之地,包括大型三银生产线上也有大量的应用。
在大面积玻璃镀膜工艺中,阴极的可靠性至关重要。在线式的镀膜机在两次破空之间的连续工作时间长达数周甚至接近两个月。旋转阴极的动密封部件通常会经过定期的维护保养以最大化阴极的可靠性。 不同阴极厂家通过先进的设计和精密的质量控制来保证产品的可靠运行,SCI 无疑是其中的佼佼者。
与平面阴极相比, 旋转阴极得益于允许使用更高的功率密度, 能承受更高打弧密度,常用的材料逐渐都转换为使用旋转阴极,如氮化硅,二氧化硅,氧化铌和二氧化钛等。对于金属层,使用旋转阴极最直接的优势是更高的材料利用率。总体而言,旋转阴极溅射不但降低了总体生产成本,同时提高了薄膜质量。

太阳能技术

可旋转阴极溅射技术目前已经广泛应用于各种太阳能应用中。
硅基技术
基于硅基的太阳能技术是第一个商业开发的光伏产品,并且今天保持着占统治地位的市场份额。虽然其他工艺用于生产硅片,但是溅射技术广泛用于制造背反射层(主要由铝制成)和前导电层(由透明导电氧化物,TCO制成)。使用旋转阴极,TCO材料在性能,经济性和质量方面获得了实质性收益。在最新开发的PERC和HIT工艺中, 特别是HIT,旋转阴极更有大量的应用。 
CIGS和CdTe
虽然称为“薄膜太阳能”技术,但这两种类型的薄膜太阳能电池通常用于薄的不锈钢等柔性基板上,偶尔也做在诸如玻璃等刚性基板上。除了传统的铝和TCO涂层外,还采用了额外的溅射层,如钼和本征氧化锌。钼(相对于铝)的成本增加导致大多数主要制造商选择旋转阴极以提高材料利用率。本征氧化锌可以使用中频AC溅射或直流脉冲溅射,相比平面阴极使用的传统RF溅射,溅射率得到了大幅度的提升。
太阳能光热应用
太阳能光热技术是利用太阳热来增加液体媒介(诸如水或油)的温度,然后直接使用这热媒的热量(如太阳能热水器)或间接发电。旋转阴极比较典型的应用为:1)制备减反射涂层(最大可能允许太阳能穿过覆盖物(如玻璃)进入热媒),2)用于太阳能集热器的反射涂层,以及3)吸收涂层,允许最大吸收太阳能辐照。这些吸收涂层可以由钼和陶瓷氧化铝制成。陶瓷氧化铝的制备,使用旋转阴极的优势明显:由于消除了靶材表面上的再沉积氧化物,靶材可以使用更高的功率密度(因此得到更高的沉积速率),同时打弧的机会大大降低。

平板显示和卷绕镀行业

旋转阴极溅射技术广泛用于显示器制造,既用于刚性显示器行业,也用于柔性显示器行业。
TFT-LCD技术利用TCO材料(主要是ITO)在LCD像素的正面提供透明电极。其他的膜层,如二氧化硅等,主要用于TFT膜系中做绝缘,过渡和封装。
与平面ITO相比,旋转ITO具有显着的经济效益:与平面ITO相比,生产成本(设备,材料,能量)可以减少一半以上,同时膜质量得到改善。柔性基材也具有同样的优点。
除了节省成本和提高质量之外,温度敏感型基材还能从旋转磁控管技术中获得额外的好处。由于旋转磁控管的冷却效率更高,用户可以得到更高的溅射效率,同时将更少的热量传递给基材。
在OLED制造中,SCI的产品用于生产薄膜阵列背板以及阳极和阴极层。

装饰镀和功能膜涂覆行业

直到最近,大多数功能性和装饰性涂层都使用了常规的薄膜技术,诸如蒸发,阴极电弧或平面磁控阴极沉积等技术等。
发展到最近,旋转阴极逐渐进入了包括汽车行业在内的功能及装饰镀市场。首先,过去5年来,旋转阴极的成本大幅下降。对于大多数功能/装饰镀膜设备而言,旋转阴极的价格与平面磁控阴极相当。客户可以使用旋转阴极得到更高的材料利用率而不增加前期成本。除了节省材料之外,旋转阴极的换靶周期大大延长,有时平面阴极换靶十次后,旋转阴极只需要更换一次靶材。
其次,旋转阴极的磁棒设计方面有很多优势给客户带来惊喜: 更强磁棒磁场强度不仅可以使用更厚的靶材,还允许口调低工艺压强。还允许客户增加靶基距并提高三维基板的膜层均匀性。旋转阴极可以随时调节溅射角,还可以通过软件控制磁棒的摆动(SWING CATHODE™)涂覆静止工件和三维工件。 允许客户在涂覆复杂形状时具有最大的灵活性。
除了各种旋转平面阴极产品外,SCI还提供用于功能和装饰镀膜应用的ENVIS-ION™磁控预处理源。DMPTS能够在提200毫米距离下为塑料基材进行有效预处理。该预处理源可以使用标准溅射电源在标准溅射工艺压力下进行操作。在某些情况下,该源还可用于为金属装饰膜提供SiO 2保护涂层(升级为CVD源)。